在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，等离子清洗设备利用高频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢、四氟化碳等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的等离子体，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化等目的。如图所示：

触摸屏操作界面

数字及图标多重工艺参数实时显示

整体小巧便于移动

自动/手动操作模式切换

可存储多套工艺配方

v用于不同材料的表面处理

v适合于研究所、大学院校、研发中心使用