PTFE也就是聚四氟乙烯,这种高分子的材料拥有出色的实用性,广泛应用在原子能、医学、半导体等行业,可制做成薄膜、管板棒、轴承、垫圈、阀门及化工管道、管件、设备容器等部件;在使用中,我们可以使用ptfe蚀刻设备(ptfe等离子表面处理设备)进行表面处理,解决材料表面刻蚀问题,方便工艺制造。

 PTFE等离子蚀刻设备.png

1、等离子刻蚀原理介绍

等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。

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2、等离子刻蚀应用领域

如:等离子体清除浮渣、光阻材料剥离、表面处理、各向异性和各向同性失效分析应用材料改性、包装清洗、钝化层蚀刻、聚亚酰胺蚀刻、增强粘接力、生物医学应用、聚合反应、混合物清洗、预结合清洗等。

3、等离子刻蚀优势介绍

3-1 材料广阔:从微芯片到完整尺寸的卷材,任何形状或复杂程度的基材,如胶带,片材,管材,模压形状和任何配置的机加工部件,都可以进行蚀刻和粘合。

3-2 干法刻蚀:利用等离子体中的化学活性原子团与被刻蚀材料发生化学反应,整个过程无需水和化学溶剂的参与,更加环保。

3-3 工艺健康:等离子体产生只需电与工艺气体,不会产生有害物质,对操作人员的身体没有伤害;设备操作也非常简单,智能化的操作屏,上手容易。

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目前 刻蚀技术按工艺分类可分为湿法刻蚀和干法刻蚀,随着技术以及工艺的不断进步,干法刻蚀逐渐成为主流;国产等离子蚀刻设备不断进步,逐步取代了进口设备,成为市场上的新选择。