等离子清洗机属于一种干式清洗，使用等离子清洗机将气体激活成等离子体，能去除表面的有机物和杂质，从而达到表面活化、清洗的效果，常见的气体包括氧气、氩气、氮气、压缩空气、氢气、四氟化碳等，不同的气体会产生不同的效果，今天来看看等离子清洗机的常用气体应该如何选择。
氧气：主要清洗物体表面的有机物，发生氧化反应。例如,有机污染物可以有效地用氧气等离子去掉,这里氧气等离子与污染物反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水。
氩气：物理轰击是氩气清洗的机理。氩气是最有效的物理等离子体清洗气体,原因在于它原子的尺寸大。可以用很大的力量轰击样品表面。正的氩离子将被吸引到负向电极板。撞击力足以去除表面上的任何污垢。然后这些气态污物通过真空泵排出。
氮气：氮气电离形成的等离子体能够与部分分子结构发生键合反应，所以也是一种活性气体，但相对于氧气和氢气而言，其粒子比较重；在清洗活化的同时能够达到一定轰击、刻蚀的效果，同时能够防止部分金属表面出现氧化。
氢气：氢气可供去除金属表面氧化物使用。 它经常与氩气混合使用,以提高去除速度。一般人们担心氢气的易燃性,氢气的使用量非常少。人们更大的担心是氢气的存储。我们可以采用氢气发生器从水中产生氢气。从而去掉了潜在的危害性。
CF4：氟化的气体在半导体工业以及PWB (印制线路板)工业中应用非常广泛。在IC封装中的应用只有一种。这些气体用在PADS工艺中,通过这种处理,氧化物转化成氟氧化物,允许无流动焊接。
以上6种气体是等离子清洗机行业常用的工艺气体，当然在一些产品中还有其它气体的使用，应用的方式非常丰富，我们需要根据工艺、成本等多方面进行选择，获得好的处理方案。
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